উন্নয়নের প্রবণতাসংকীর্ণ লাইনউইথ লেজার
সংকীর্ণ লাইনউইথ লেজারে লেজার ফিডব্যাক মোডের বিবর্তন হলো লেজার রেজোনেন্ট ক্যাভিটি কাঠামোর বিবর্তন। নিচে, আমরা লেজার রেজোনেটরের বিবর্তনের ক্রমানুসারে সংকীর্ণ লাইনউইথ লেজার প্রযুক্তির বিভিন্ন কনফিগারেশন উপস্থাপন করব।
১. একক প্রধান ক্যাভিটি কনফিগারেশন। এই ধরণের লেজারকে লিনিয়ার ক্যাভিটি (ক্লাসিক্যাল কনফিগারেশন, সরল এবং কার্যকর কাঠামো) এবং অ্যানুলার ক্যাভিটি (স্পেশিয়াল হোল বার্নিং কাটিয়ে এবং ট্র্যাভেলিং ওয়েভ ফিল্ড ব্যবহার করে) - এই দুই ভাগে ভাগ করা যায়। রিং রেজোনেটরের মধ্যে নন-প্ল্যানার রিং রেজোনেটর (NPRO) বিশেষভাবে উল্লেখ করা হয়েছে, যা একটি বিশেষ এবং অত্যন্ত স্থিতিশীল ট্র্যাভেলিং ওয়েভ ফিল্ড।লেজারক্যাভিটির দৈর্ঘ্যের দৃষ্টিকোণ থেকে, একে দুই ভাগে ভাগ করা যায়: ছোট ক্যাভিটি (যেগুলোতে একক অনুদৈর্ঘ্য মোড এসএলএম সহজে বাস্তবায়ন করা যায়, কিন্তু এগুলোর সহজাত লাইন প্রস্থ বেশি এবং নয়েজ উচ্চ) এবং লম্বা ক্যাভিটি (স্বাভাবিকভাবেইসংকীর্ণ লাইনের প্রস্থকিন্তু এসএলএম অপারেশন বাস্তবায়ন করা একটি প্রযুক্তিগত অসুবিধা)।
২. একক বাহ্যিক ক্যাভিটি ফিডব্যাক কনফিগারেশন। এই কনফিগারেশনটি একটি একক প্রধান ক্যাভিটিতে ফোটনের স্বল্প মিথস্ক্রিয়া সময় এবং স্বতঃস্ফূর্ত নিঃসরণ দূর করার কঠিন সমস্যার সমাধানের জন্য প্রস্তাব করা হয়েছে। এতে ফোটনগুলোকে একটি বাহ্যিক ক্যাভিটির মধ্য দিয়ে ফিল্টার করে এবং ফিডব্যাক দিয়ে লাইনউইডথ সংকুচিত করা হয়। প্রাথমিক ক্লাসিক্যাল কাঠামোগুলোর মধ্যে গ্রেটিং ব্যবহারকারী লিট্রো এবং লিটম্যান মেটকাফ ধরনের বাহ্যিক ক্যাভিটি অন্তর্ভুক্ত ছিল। এই কনফিগারেশনের প্রযুক্তিগত অসুবিধাটি প্রধান ক্যাভিটি এবং বাইরের ক্যাভিটির মধ্যে ফেজ ম্যাচিং-এর মধ্যে নিহিত।
৩. ব্র্যাগ গ্রেটিং-এর উপর ভিত্তি করে দুটি সমন্বিত প্রধান ক্যাভিটি কনফিগারেশন:
ডিএফবি লেজারগঠনবিন্যাস: ব্র্যাগ কাঠামোকে সক্রিয় অঞ্চলের সাথে একত্রিত করে এবং ফেজ শিফট অঞ্চল প্রবর্তন করার মাধ্যমে, এটির উচ্চতর ইন্টিগ্রেশন, স্থিতিশীলতা এবং ব্যবহারিকতা রয়েছে এবং এটি DBR-এর তরঙ্গদৈর্ঘ্যের বিচ্যুতি উন্নত করে। প্রযুক্তিগত অসুবিধাটি গ্রেটিং প্রক্রিয়াকরণে নিহিত (যেমন সেমিকন্ডাক্টর DFB-এর সেকেন্ডারি এপিটেক্সিয়াল RGF-DFB এবং সারফেস এচিং SG-DFB পদ্ধতি)।
ডিবিআর লেজার কনফিগারেশন: এটি প্রচলিত আয়নার পরিবর্তে পর্যায়ক্রমিক প্যাসিভ ব্র্যাগ কাঠামো ব্যবহার করে, যেগুলোর ফিল্টারিং বৈশিষ্ট্য রয়েছে এবং ছোট ক্যাভিটি ব্যবহার করে এসএলএম সহজে বাস্তবায়ন করা যায়। গেইন মিডিয়ামের উপর ভিত্তি করে, একে সেমিকন্ডাক্টর ডিবিআর (উত্তম প্রসেস সামঞ্জস্যতা সহ) এবং ফাইবার ডিবিআর (ফাইবার প্রসেসিং এবং ডোপিং প্রযুক্তির উপর নির্ভরশীল) - এই দুই ভাগে ভাগ করা যায়।
সংক্ষিপ্ত প্রধান ক্যাভিটির (যেমন DFB/DBR) লাইনউইডথ আরও সংকুচিত করার জন্য, একটি যৌগিক বহিঃস্থ ক্যাভিটি কাঠামো ব্যবহার করা হবে। প্রযুক্তির বিকাশের সাথে সাথে বহিঃস্থ ক্যাভিটির রূপেরও বিবর্তন ঘটেছে:
স্পেস এক্সটার্নাল ক্যাভিটি: এর প্রাথমিক প্রধান রূপসমূহ, যার মধ্যে রয়েছে গ্রেটিং (লিট্রো/লিটম্যান) এবং বিভিন্ন অপটিক্যাল ফিল্টার (যেমন এফপি স্ট্যান্ডার্ড)।
ফাইবার অপটিক এক্সটার্নাল ক্যাভিটি: সমস্ত ফাইবার অপটিক ডিভাইস (যেমন ফাইবার অপটিক সার্কিট, এফবিজি, ফাইবার অপটিক এফপি ক্যাভিটি, ইত্যাদি) ব্যবহারের ফলে এর ইন্টিগ্রেশন এবং অ্যান্টি-ইন্টারফারেন্স ক্ষমতা আরও শক্তিশালী হয়।
বাহ্যিক ওয়েভগাইড ক্যাভিটি: Si এবং Si3N4-এর মতো সেমিকন্ডাক্টর উপাদানের উপর ভিত্তি করে মাইক্রো ন্যানো প্রক্রিয়াকরণ, যা সিস্টেমটিকে আরও কম্প্যাক্ট এবং স্থিতিশীল করে তোলে।
পরিশেষে, এই প্রবন্ধে অপ্টোইলেকট্রনিক অসিলেটিং লেজারের কনফিগারেশন তুলে ধরা হয়েছে, যা পিডিএইচ ফ্রিকোয়েন্সি স্টেবিলাইজেশন প্রযুক্তির মতো এক বিশেষ ধরনের ফিডব্যাক। বৈদ্যুতিক নেগেটিভ ফিডব্যাক ব্যবহার করে লেজারের ফ্রিকোয়েন্সিকে একটি অত্যন্ত স্থিতিশীল রেফারেন্স উৎসের সাথে লক করার মাধ্যমে অত্যন্ত উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি স্থিতিশীলতা অর্জন করা যায়। তবে, এই সিস্টেমটি জটিল, ব্যয়বহুল এবং এর তরঙ্গদৈর্ঘ্যের নমনীয়তা সীমিত।
পোস্ট করার সময়: ১৪-এপ্রিল-২০২৬