লেজার জেনারেশন মেকানিজমের সাম্প্রতিক অগ্রগতি এবং নতুনলেজার গবেষণা
সম্প্রতি, শানডং বিশ্ববিদ্যালয়ের স্টেট কী ল্যাবরেটরির ক্রিস্টাল ম্যাটেরিয়ালসের অধ্যাপক ঝাং হুয়াইজিন এবং অধ্যাপক ইউ হাওহাই এবং নানজিং বিশ্ববিদ্যালয়ের স্টেট কী ল্যাবরেটরির সলিড মাইক্রোস্ট্রাকচার ফিজিক্সের অধ্যাপক চেন ইয়ানফেং এবং অধ্যাপক হে চেং-এর গবেষণা দল সমস্যা সমাধানের জন্য একসাথে কাজ করেছে এবং ফুন-ফোনন সহযোগিতামূলক পাম্পিংয়ের লেজার জেনারেশন প্রক্রিয়া প্রস্তাব করেছে এবং ঐতিহ্যবাহী Nd:YVO4 লেজার স্ফটিককে প্রতিনিধিত্বমূলক গবেষণা বস্তু হিসেবে গ্রহণ করেছে। ইলেকট্রন শক্তি স্তরের সীমা অতিক্রম করে সুপারফ্লুরোসেন্সের উচ্চ দক্ষতার লেজার আউটপুট পাওয়া যায় এবং লেজার জেনারেশন থ্রেশহোল্ড এবং তাপমাত্রার মধ্যে ভৌত সম্পর্ক (ফোনন সংখ্যা ঘনিষ্ঠভাবে সম্পর্কিত) প্রকাশিত হয় এবং অভিব্যক্তি ফর্মটি কুরির সূত্রের মতোই। গবেষণাটি নেচার কমিউনিকেশনস (doi:10.1038/ S41467-023-433959-9) জার্নালে "ফোটন-ফোনন সহযোগিতামূলকভাবে পাম্পড লেজার" নামে প্রকাশিত হয়েছে। শানডং বিশ্ববিদ্যালয়ের স্টেট কী ল্যাবরেটরি অফ ক্রিস্টাল ম্যাটেরিয়ালস-এর ২০২০ শ্রেণীর পিএইচডি ছাত্র ইউ ফু এবং ফেই লিয়াং সহ-প্রথম লেখক, নানজিং বিশ্ববিদ্যালয়ের স্টেট কী ল্যাবরেটরি অফ সলিড মাইক্রোস্ট্রাকচার ফিজিক্স-এর চেং হে দ্বিতীয় লেখক এবং শানডং বিশ্ববিদ্যালয়ের অধ্যাপক ইউ হাওহাই এবং হুয়াইজিন ঝাং এবং নানজিং বিশ্ববিদ্যালয়ের ইয়ানফেং চেন সহ-প্রত্যয়িত লেখক।
গত শতাব্দীতে আইনস্টাইন আলোর উদ্দীপিত বিকিরণ তত্ত্ব প্রস্তাব করার পর থেকে, লেজার প্রক্রিয়া সম্পূর্ণরূপে বিকশিত হয়েছে এবং 1960 সালে, মাইম্যান প্রথম অপটিক্যালি পাম্প করা কঠিন-অবস্থার লেজার আবিষ্কার করেন। লেজার জেনারেশনের সময়, তাপীয় শিথিলকরণ লেজার জেনারেশনের সাথে একটি গুরুত্বপূর্ণ ভৌত ঘটনা, যা লেজারের কর্মক্ষমতা এবং উপলব্ধ লেজার শক্তিকে মারাত্মকভাবে প্রভাবিত করে। তাপীয় শিথিলকরণ এবং তাপীয় প্রভাব সর্বদা লেজার প্রক্রিয়ার মূল ক্ষতিকারক ভৌত পরামিতি হিসাবে বিবেচিত হয়েছে, যা বিভিন্ন তাপ স্থানান্তর এবং রেফ্রিজারেশন প্রযুক্তি দ্বারা হ্রাস করতে হবে। অতএব, লেজার বিকাশের ইতিহাসকে বর্জ্য তাপের সাথে লড়াইয়ের ইতিহাস হিসাবে বিবেচনা করা হয়।
ফোটন-ফোনন সমবায় পাম্পিং লেজারের তাত্ত্বিক সারসংক্ষেপ
গবেষণা দলটি দীর্ঘদিন ধরে লেজার এবং নন-লিনিয়ার অপটিক্যাল উপকরণ গবেষণায় নিযুক্ত রয়েছে এবং সাম্প্রতিক বছরগুলিতে, কঠিন অবস্থা পদার্থবিদ্যার দৃষ্টিকোণ থেকে তাপীয় শিথিলকরণ প্রক্রিয়াটি গভীরভাবে বোঝা গেছে। মাইক্রোকসমিক ফোননগুলিতে তাপ (তাপমাত্রা) মূর্ত থাকে এই মৌলিক ধারণার উপর ভিত্তি করে, এটি বিবেচনা করা হয় যে তাপীয় শিথিলকরণ নিজেই ইলেকট্রন-ফোনন সংযোগের একটি কোয়ান্টাম প্রক্রিয়া, যা উপযুক্ত লেজার ডিজাইনের মাধ্যমে ইলেকট্রন শক্তির স্তরের কোয়ান্টাম সেলাই উপলব্ধি করতে পারে এবং নতুন তরঙ্গদৈর্ঘ্য তৈরি করতে নতুন ইলেকট্রন ট্রানজিশন চ্যানেল পেতে পারে।লেজার। এই চিন্তাভাবনার উপর ভিত্তি করে, ইলেকট্রন-ফোনন সমবায় পাম্পিং লেজার জেনারেশনের একটি নতুন নীতি প্রস্তাব করা হয়েছে, এবং ইলেকট্রন-ফোনন কাপলিং-এর অধীনে ইলেকট্রন ট্রানজিশন নিয়মটি একটি প্রতিনিধিত্বমূলক বস্তু হিসাবে Nd:YVO4, একটি মৌলিক লেজার স্ফটিককে গ্রহণ করে উদ্ভূত হয়েছে। একই সময়ে, একটি অ-ঠান্ডা ফোটন-ফোনন সমবায় পাম্পিং লেজার তৈরি করা হয়, যা ঐতিহ্যবাহী লেজার ডায়োড পাম্পিং প্রযুক্তি ব্যবহার করে। বিরল তরঙ্গদৈর্ঘ্য 1168nm এবং 1176nm সহ লেজার ডিজাইন করা হয়েছে। এই ভিত্তিতে, লেজার জেনারেশন এবং ইলেকট্রন-ফোনন কাপলিং-এর মৌলিক নীতির উপর ভিত্তি করে, এটি পাওয়া যায় যে লেজার জেনারেশন থ্রেশহোল্ড এবং তাপমাত্রার গুণফল একটি ধ্রুবক, যা চুম্বকত্বে কুরির সূত্রের প্রকাশের অনুরূপ, এবং বিশৃঙ্খল পর্যায়ের রূপান্তর প্রক্রিয়ায় মৌলিক ভৌত আইনও প্রদর্শন করে।
ফোটন-ফোনন সমবায়ের পরীক্ষামূলক বাস্তবায়নপাম্পিং লেজার
এই কাজটি লেজার জেনারেশন মেকানিজমের উপর অত্যাধুনিক গবেষণার জন্য একটি নতুন দৃষ্টিভঙ্গি প্রদান করে,লেজার পদার্থবিদ্যা, এবং উচ্চ শক্তির লেজার, লেজার তরঙ্গদৈর্ঘ্য সম্প্রসারণ প্রযুক্তি এবং লেজার স্ফটিক অন্বেষণের জন্য একটি নতুন নকশার মাত্রা নির্দেশ করে এবং এর উন্নয়নের জন্য নতুন গবেষণা ধারণা নিয়ে আসতে পারেকোয়ান্টাম অপটিক্স, লেজার মেডিসিন, লেজার ডিসপ্লে এবং অন্যান্য সম্পর্কিত অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্র।
পোস্টের সময়: জানুয়ারী-১৫-২০২৪